全球半導體微影設備龍頭艾斯摩爾（ASML）將針對銷往韓國的設備替換備品全面調漲價格 10%。此項價格調漲涵蓋極紫外光（EUV）與深紫外光（DUV）微影系統的所有零件，預計自 2027 年 1 月起交付的備品將全面適用新價格。
市場消息指出，ASML 荷蘭總部於2026年 9 月初透過韓國子公司向三星與 SK 海力士（SK Hynix）傳達調漲方案，經兩家公司採購部門協商後已正式確定。而本次調漲範圍極廣，涵蓋定期採購的消耗性零件，以及因故障或效能衰退而更換的核心組件，其中包含導光鏡頭與反視鏡、光源及精密運動控制系統等，這將直接顯著推升晶圓廠維持設備運作的日常維護成本。
市場消息強調，ASML 過往僅會在原料成本大幅上漲或特定材料取得困難時調整個別零件價格，本次實施高達 10% 的全面性漲價相當罕見。除了組件成本整體上升外，ASML 亦被認為意在分得客戶獲利中的更多比例。目前，ASML 來自已安裝設備的後續服務、備品及升級業務收益相當龐大，2026 年該領域營收達 81.93 億歐元，占總營收 326.67 億歐元金額的 25%，且預計2026年該業務營收成長率將超過 30%。
除了備品之外，新訂購的 ASML 設備價格亦面臨調漲壓力，公司目前正與主要客戶洽談設備調價事宜。先前美國科技媒體《The Information》於 7 月曾經報導表示，ASML 已通知晶片製造商等客戶將調漲 DUV 設備價格 10%，在中國已經有部分客戶接受。但此漲價動作，其最大客戶台積電傳出反對的態度。
隨著三星與 SK 海力士接受備品調漲，預期將強化其他半導體設備與零組件供應商的談判優勢。例如應材（Applied Materials）已於 8 月財報宣布新舊產品價格均已調升，東京威力科創（Tokyo Electron）也已於 7 月說明會表示正針對市售設備進行價格調整。
此波設備與備品調漲主要源於AI 資料中心投資熱潮，帶動記憶體廠與晶圓代工廠同時展開大規模擴產，導致設備與零件訂單暴增並陷入供不應求狀態。加上通膨與原料成本上漲，使供應商談判權大增，打破了過去由半導體製造商憑藉採購力壓低價格的常態。整體半導體製造設備未來價格的發展，預計將隨著半導體產業的走勢而推進，後續的情況值得觀察。
由 科技新報 轉載